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Sustratos de vidrio: La revolución disruptiva en el empaque de semiconductores avanzados

La revolución de material silencioso remodelando la electrónica

Intel 2024 debut global de vidrio empaquetado de sustrato La tecnología detonó un cambio sísmico en la fabricación de semiconductores. Al 2025 Suzhou TGV Industry Summit, Líderes técnicos de Intel, TSMC, y Samsung estuvo de acuerdo: “Glass substrates will drive semiconductor packaging into a ‘transparent era,’ with market penetration exceeding 50% within five years.” Este análisis explora la justificación tecnológica, Transformación de la cadena industrial, e implicaciones para tarjeta de circuito impreso industrias.

1. Superioridad técnica: Por qué los sustratos de vidrio redefinen el embalaje

1.1 Dominio de la propiedad física

Comparative analysis reveals glass substrates’ overwhelming advantages :

Parámetro Sustratos orgánicos Interposers de silicio Sustratos de vidrio
Constante dieléctrica 4.2-4.8 11.9 3.9
Pérdida tangente 0.02-0.04 0.001-0.01 0.0001-0.001
CTE (ppm/°C) 16-18 2.6 3.2-7.5 (sintonizable)
Conductividad térmica 0.2-0.3 150 1.1
Aspereza de la superficie 0.5-1.0 μm 0.05 μm <0.01 μm

(Fuente: Libro blanco técnico de Intel, Laboratorio de materiales de Corning)

Análisis de ecuación de pérdida de señal
Atenuación (a) se define como:

With ε’≈3.9 and ε”≈0.001 for glass substrates, de alta frecuencia (100GHz) Las pérdidas se reducen por 67% versus sustratos orgánicos (E'4.5, ε”≈0.03).

1.2 Mejora de la densidad exponencial

La GPU GB200 de NVIDIA demuestra 50%+ Aumento del recuento de matriz usando sustratos de vidrio, Lograr 5 μm/5 μm de densidad de cableado a través de:

2. Innovaciones de procesos: Industrialización de la tecnología TGV

2.1 Avances de fabricación a través de glass-via

La modificación láser de Titanrise Tech logra 8,000 vias/seg a ± 5 μm de precisión (3a), 160× más rápido que los métodos convencionales. Pasos clave:

  1. Modificación del láser de picosegundos: Crea zonas alteradas a escala de micron

  2. Grabado de HF: Logra 100:1 relación de aspecto

  3. Metalización: Pvd pulverizando + galvanoplastia (>15Adhesión MPA)

2.2 Avances de metalización

Cuatro rutas técnicas Dirección de adhesión de vidrio:

  1. Sin electricidad con + Microetching (Soluciones AKM)

  2. Pasta de nano-Ag + Teniente sinterización (Patente de Wintech)

  3. Injerto de plasma (Tecnología IME-Cas)

  4. PVD TI/con pila (Estándar de Titanrise)

entre ellos, UGPCB ha invertido mucho en la introducción del equipo DEP600, que adopta una alta relación de tecnología de pulverización de la relación, logro 95% cobertura 10:1 perfiles de agujeros, con una resistividad metálica de menos de 2.5 μΩ · cm, alcanzar un nivel de liderazgo internacional.

3. Panorama de la industria: La competencia global se intensifica

3.1 Proyecciones de crecimiento del mercado

Prismark pronostica expansión explosiva:

3.2 Carrera de tecnología geopolítica

4. Desafíos & Soluciones: Obstáculos de comercialización

4.1 Vías de reducción de costos

Los sustratos actuales de 3-5 × costo vs tradicionales se desplomarán:

4.2 Certificación de confiabilidad

Se requieren nuevos estándares:

5. Implicaciones de la industria de PCB: Amenaza versus oportunidad

5.1 Interrupción del mercado

5.2 Sinergias tecnológicas

Conclusión: Sustratos transparentes, Futuros opacos

China ahora lidera los sectores críticos de TGV (equipo, pruebas, materiales). Como señala Pat Gelsinger de Intel: “Material innovation becomes the new Moore’s Law at atomic scales.” Esta revolución impulsada por el vidrio puede desbloquear la segunda curva de crecimiento del semiconductor.

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